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真空系统工艺气氛环境有哪些?

类别:行业资讯 发布时间:2020-07-17 浏览人次:

真空系统应用中,抽取的气体不单单包括应用工艺中产生的各种气体,还包括系统中原有的大气空气等,那总体来说都有哪些呢?

真空系统工艺气氛环境有哪些?

真空共晶炉


1、真空系统工艺过程中产生的气体

它包括工艺过程中材料放出的气体以及工艺需要而引入的气体,同时真空系统中液体或固体蒸发的气体也包含其中,不同的工艺过程以及不同的被处理材料,这部分气体的量的计算是不同的。

2、真空系统内原本存在的大气气体

真空统中直空容器室、真空管路等,这些原本就有一定量的大气气体成分,在抽气初明,它们是真空系统抽气的主要气体负荷,也是被系统最早抽走的。

3、空系统中的泄漏气体

泄漏气体句括大气通过真空密封的连接处以及各种漏隙通道泄漏进入真空系统内部的气体。对于确定的真空系统来说,泄漏的气体量是一个常数。不同的真空系统应用、不同的极限压力,对泄漏气体的量也有严格的限制。

4、真空系统中各种材料表面解吸释放出来的气体

常压下,真空系统中的材料表面会吸附、溶解部分气体。在负压状态下,这部分气体会重新释放出来。它的放气流量与材料性能、处理工艺以及材料表面状态有关。

5、真空系统外大气通过器壁材料渗透到系统内的气体

气体在固体中也会发生溶解、渗透。因此大气通过容器壁结构材料会向真空系统内渗透部分气体。这种渗透在一般的金属系统下可以不考虑,但部分应用在玻璃真空系统或薄壁金属系统会需要考虑渗透气体带来的影响。

以上5个方面就构成了真空系统的总的抽气负荷。

中科同志专业生产真空共晶炉,满足氮气气氛环境、氮氢混合气体的气氛环境、甲酸气氛环境、纯氢气的气氛环境等各种气氛环境。大家如果遇到气氛环境的问题,请咨询中科同志。

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